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タングステンターゲット

簡単な説明:

製品名:タングステン(W)スパッタリングターゲット

グレード: W1

純度(%):99.5%、99.8%、99.9%、99.95%、99.99%

形状:板状、円形、回転式、パイプ/チューブ

仕様:お客様のご要望に応じて

規格:ASTM B760-07、GB/T 3875-06

密度:19.3g/cm³以上

融点:3410℃

原子体積:9.53 cm³/mol

抵抗温度係数:0.00482 I/℃


製品詳細

商品タグ

製品パラメータ

製品名 タングステン(W)スパッタリングターゲット
学年 W1
利用可能な純度(%) 99.5%、99.8%、99.9%、99.95%、99.99%
形: プレート、丸型、回転式、パイプ/チューブ
仕様 顧客の要望に応じて
標準 ASTM B760-07、GB/T 3875-06
密度 ≥19.3g/cm3
融点 3410℃
原子体積 9.53 cm3/mol
抵抗の温度係数 0.00482 I/℃
昇華熱 847.8 kJ/mol(25℃)
融解潜熱 40.13±6.67kJ/mol
平面タングステンターゲット、回転タングステンターゲット、円形タングステンターゲット
表面状態 研磨剤またはアルカリ洗浄
職人技 タングステンビレット(原材料)- 試験- 熱間圧延- レベリングおよび焼鈍- アルカリ洗浄- 研磨- 試験- 梱包

スプレー焼結タングステンターゲットは、密度が99%以上、平均透明テクスチャ径が100μm以下、酸素含有量が20ppm以下、偏向力が約500Mpaという特徴を持ち、未加工金属粉末の生産を改善し、焼結能力を向上させ、タングステンターゲットのコストを低価格で安定させることができます。焼結タングステンターゲットは高密度で、従来のプレス焼結法では実現できない高レベルの透明フレームを持ち、偏向角を大幅に改善するため、微粒子が大幅に削減されます。

アドバンテージ

(1)表面が滑らかで、気孔、傷、その他の欠陥がない

(2)研削または旋削加工された刃先で、切削痕がないこと

(3)比類なき素材純度

(4)高い延性

(5)均質な微細構造

(6)お客様の特別なアイテムに、名前、ブランド、純度、サイズなどをレーザーマーキングします。

(7)粉末材料の品目と数量、混合作業員、アウトガスとHIP時間、加工担当者、梱包の詳細に至るまで、スパッタリングターゲットのすべてのピースは自社で製造しています。

これらの手順すべてにより、新しいスパッタリングターゲットや方法が開発されたら、それをコピーして保存することで、安定した品質の製品を維持できることが保証されます。

その他の利点

高品質な素材

(1)100%密度=19.35 g/cm³

(2)寸法安定性

(3)機械的特性の向上

(4)均一な粒度分布

(5)粒径が小さい

アパラチア山脈

タングステンターゲット材料は、主に航空宇宙、希土類精錬、光源、化学装置、医療機器、冶金機械、製錬装置、石油などの分野で使用されています。


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