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タングステンターゲット

簡単な説明:

製品名:Tungsten(W)スパッタリングターゲット

グレード:W1

利用可能な純度(%):99.5%、99.8%、99.9%、99.95%、99.99%

形状:プレート、丸い、ロータリー、パイプ/チューブ

仕様:顧客が要求するように

標準:ASTM B760-07、GB/T 3875-06

密度:≥19.3g/cm3

融点:3410°C

原子体積:9.53 cm3/mol

温度抵抗係数:0.00482 I/℃


製品の詳細

製品タグ

製品パラメーター

製品名 タングステン(w)スパッタリングターゲット
学年 W1
利用可能な純度(%) 99.5%、99.8%、99.9%、99.95%、99.99%
形: プレート、丸い、ロータリー、パイプ/チューブ
仕様 顧客が要求するように
標準 ASTM B760-07、GB/T 3875-06
密度 ≥19.3g/cm3
融点 3410°C
原子量 9.53 cm3/mol
温度抵抗係数 0.00482 I/℃
昇華熱 847.8 kj/mol(25℃)
融解の潜熱 40.13±6.67kj/mol
平面タングステンターゲット、回転タングステンターゲット、丸いタングステンターゲット
表面状態 ポリッシュまたはアルカリの洗浄
仕上がり タングステンビレット(原料) - テスト - ホットローリングレベルとアニーリング - アルカリウォッシュポリッシュテストパッキング

スプレーおよび焼結タングステンターゲットの特性は99%以上の特性を持ち、平均透明なテクスチャ直径は100um以下で、酸素含有量は20ppm以下、たわみは約500mpaです。焼結能力を改善するために未加工の金属粉末の生産が改善され、タングステンターゲットのコストは低価格で安定化できます。焼結タングステンターゲットは高密度であり、従来のプレスおよび焼結方法では達成できない高レベルの透明フレームを持ち、微分物質が大幅に減少するため、たわみ角を大幅に改善します。

アドバンテージ

(1)毛穴、スクラッチ、その他の欠陥のない滑らかな表面

(2)粉砕または旋盤エッジ、切断マークなし

(3)物質的な純度の無敵のレレル

(4)高い延性

(5)均一な微小トラカル

(6)名前、ブランド、純度サイズなどを備えた特別なアイテムのレーザーマーキング

(7)パウダーマテリアルのアイテムと番号、混合労働者、アウトガスとヒップ時間、機械加工者、梱包の詳細からのスパッタリングターゲットのすべてのPCがすべて自分で作られています。

これらのステップはすべて、新しいスパッタリングターゲットまたはメソッドが作成されたら、コピーしてStabel高品質の製品をサポートするために保持することができます。

他のDVantage

高品質の材料

(1)100%密度= 19.35 g/cm³

(2)寸法の安定性

(3)強化された機械的特性

(4)均一な穀物サイズ分布

(5)小さな穀物サイズ

アパラチアン

タングステンの標的材料は、主に航空宇宙、希土類製錬、電気光源、化学機器、医療機器、冶金機械、製錬装置、石油およびその他の畑で使用されています。


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