タングステンターゲット
製品パラメータ
| 製品名 | タングステン(W)スパッタリングターゲット |
| 学年 | W1 |
| 利用可能な純度(%) | 99.5%、99.8%、99.9%、99.95%、99.99% |
| 形： | プレート、丸、ロータリー、パイプ/チューブ |
| 仕様 | 顧客の要求に応じて |
| 標準 | ASTM B760-07、GB/T 3875-06 |
| 密度 | ≥19.3g/cm3 |
| 融点 | 3410℃ |
| 原子体積 | 9.53cm3/mol |
| 抵抗温度係数 | 0.00482I/℃ |
| 昇華熱 | 847.8 kJ/mol(25℃) |
| 溶解潜熱 | 40.13±6.67kJ/mol |
| 州 | 平面タングステンターゲット、回転タングステンターゲット、円形タングステンターゲット |
| 表面状態 | ポリッシュまたはアルカリ洗浄 |
| 仕上がり | タングステンビレット（素材）-試験-熱間圧延-レベリング・焼鈍-アルカリ洗浄-研磨-試験-梱包 |
溶射および焼結タングステンターゲットは、密度99%以上、平均透明組織直径100μm以下、酸素含有量20ppm以下、偏向力約500Mpaという特徴を持っています。未処理の金属粉末の生産性が向上します。焼結性が向上するため、タングステンターゲットのコストを安価に安定させることができます。焼結タングステンターゲットは、従来のプレス焼結法では実現できない高密度で高レベルの透明フレームを有し、偏向角が大幅に向上するため、粒子状物質が大幅に減少します。
アドバンテージ
(1) 毛穴、傷、その他の欠陥のない滑らかな表面
(2) 研削または旋盤の刃、切削痕なし
(3) 材質純度の比類のないレレル
(4) 高い延性
(5) 均一な微細構造
(6) 特別なアイテムに名前、ブランド、純度サイズなどをレーザーマーキングします。
(7) スパッタリングターゲットは、粉末材料の品目と番号、混合作業者、アウトガスとHIP時間、加工者、梱包の細部に至るまで、すべて自社で製造されています。
これらのステップはすべて、新しいスパッタリング ターゲットまたはメソッドが作成されたら、それをコピーして維持し、安定した品質の製品をサポートできることを約束します。
その他のメリット
高品質の素材
(1) 100 % 密度 = 19.35 g/cm3
(2) 寸法安定性
(3) 機械的特性の向上
(4) 均一な粒度分布
(5) 粒径が小さい
アパラチア
タングステンターゲット材料は、主に航空宇宙、希土類精錬、光源、化学機器、医療機器、冶金機械、精錬機器、石油およびその他の分野で使用されます。
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